هاتف 2L81-050097-V3 وحدة تحكم الترددات اللاسلكية

دليل المنتج：

هاتف 2L81-050097-V3 وحدة تحكم الترددات اللاسلكية
TEL 2L81-050097-V3 is suitable for RF control of semiconductor etching and deposition equipment
Accurately control RF power and stabilize the plasma state inside the cavity
Real time impedance matching to reduce RF reflection loss
Hardware signal isolation to resist workshop electromagnetic interference
Standard slot type board, من السهل تفكيكها واستبدالها
عملية مستقرة لدرجة الحرارة على نطاق واسع, مناسبة لظروف ورشة العمل النظيفة
Real time collection of RF parameters, closed-loop process adjustment
المدمج في التحقق من الخطأ الذاتي, quick alarm for RF abnormalities
قنوات إشارة متعددة, synchronized linkage RF power supply
Precise factory wiring with low signal loss

هيكل التعزيز الزلزالي, suitable for long-term vibration operation of equipment
Multi process parameter storage, no need to readjust when switching processes
لوحة مصغرة, توفير مساحة التثبيت لخزائن التحكم
Multiple overcurrent and overvoltage protection to prevent damage to RF components
Perfectly compatible with all TEL plasma process equipment in the range
ملخص: TEL 2L81-050097-V3 RF controller has high regulation accuracy, anti-interference durability, and is the core control board of semiconductor plasma equipment RF system.

صور مفصلة للمنتج：

2L81-050097-V3

فيديو المنتج

روابط أخرى

Honeywell TC-FPCXX2 AC Input Power Supply
وحدة الذاكرة الحاسمة CT102464BF160B
PM802F 3BDH0000002R1 Programmable Logic Controller

روابط أخرى

VMIVME-7650-83H وحدة توربينات الغاز
حساس PFTL 101B 20.0KN 3BSE004203R1
جهاز الإرسال والاستقبال S710D-EST2