ТЕЛ 2L81-050097-V3 Радиочастотный контроллер
Руководство по продукту：
ТЕЛ 2L81-050097-V3 Радиочастотный контроллер
TEL 2L81-050097-V3 is suitable for RF control of semiconductor etching and deposition equipment
Accurately control RF power and stabilize the plasma state inside the cavity
Real time impedance matching to reduce RF reflection loss
Hardware signal isolation to resist workshop electromagnetic interference
Standard slot type board, легко разобрать и заменить
Широкий диапазон температур и стабильная работа, подходит для чистых условий мастерской
Real time collection of RF parameters, closed-loop process adjustment
Встроенная самопроверка неисправностей, quick alarm for RF abnormalities
Несколько каналов сигнала, synchronized linkage RF power supply
Precise factory wiring with low signal loss
Сейсмостойкая армирующая конструкция, подходит для длительной вибрационной работы оборудования
Multi process parameter storage, no need to readjust when switching processes
Миниатюрная доска, экономия места для установки шкафов управления
Multiple overcurrent and overvoltage protection to prevent damage to RF components
Perfectly compatible with all TEL plasma process equipment in the range
Краткое содержание: TEL 2L81-050097-V3 RF controller has high regulation accuracy, anti-interference durability, and is the core control board of semiconductor plasma equipment RF system.
Подробные фотографии продукта：
2L81-050097-V3
видео о продукте
Другие ссылки
Honeywell TC-FPCXX2 Блок питания переменного тока
Модуль памяти Crucial CT102464BF160B
Программируемый логический контроллер PM802F 3BDH0000002R1
Другие ссылки
ВМИВМЕ-7650-83Х Модуль газотурбинный
Датчик ПФТЛ 101Б 20.0КН 3BSE004203R1
Трансивер S710D-EST2
